日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置

日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A

全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。

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日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A 特點(diǎn)介紹

全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。

干燥采用熱純水干燥，而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥，并采用免調(diào)節(jié)設(shè)計(jì)，省去了水飛濺調(diào)節(jié)的麻煩。熱純水干燥

對(duì)應(yīng)的面罩尺寸，最多7英寸。專(zhuān)用盒最多可裝20張。

日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A 規(guī)格參數(shù)

?輕松去除附著在掩模上的抗蝕劑

?輕松移除蒙版上的粒子

?清洗液開(kāi)發(fā)對(duì)環(huán)境友好的溫和的水溶性藥液

?從熱硫酸和硫酸過(guò)水等危險(xiǎn)中解脫出來(lái)

?不需要昂貴的去除劑和顯影液

用途：平板顯示器，MEMS器件，精細(xì)圖案PCB/FPC/TAB，化合物半導(dǎo)體，薄膜電子元件等。

TWC系列可同時(shí)去除附著在掩模上的抗蝕劑和顆粒。使用專(zhuān)用藥液去除抗蝕劑和TW系列培養(yǎng)的顆粒去除技術(shù)，有助于提高口罩的清潔度。

全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。

干燥采用熱純水干燥，而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥，并采用免調(diào)節(jié)設(shè)計(jì)，省去了水飛濺調(diào)節(jié)的麻煩。熱純水干燥

對(duì)應(yīng)的面罩尺寸，最多7英寸。專(zhuān)用盒最多可裝20張。

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