電容式露點(diǎn)儀TK-100主要運(yùn)用于半導(dǎo)體芯片哪些方面

主要用途

手套箱內(nèi)的露點(diǎn)控制

干燥機(jī)露點(diǎn)檢查

熱處理爐內(nèi)氣氛控制

潔凈室/干燥室露點(diǎn)管理

氣體純度控制

天然氣水分管理

半導(dǎo)體制造設(shè)備

有機(jī)EL制造

測量氣體中的水蒸氣露點(diǎn)溫度的儀器叫做露點(diǎn)儀。露點(diǎn)儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同，可以分為多種類型。這里只介紹熱電制冷自動檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中的應(yīng)用。

       露點(diǎn)儀在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用。半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)是在凈化間內(nèi)進(jìn)行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度（RH）這一項，一年內(nèi)控制點(diǎn)的范圍從35%到65%，精度2%（70℃以下）濕度超標(biāo)會影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計劃的完成。

        在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)區(qū)，濕度不穩(wěn)定，會出現(xiàn)很多問題。最典型的問題是烘干期延長，整個處理過程變得難以控制。當(dāng)相對濕度高于35%時，元件易被腐蝕。此外，將顯影液噴在芯片表面時，顯影液迅速揮發(fā)，使芯片表面溫度下降，致使水汽凝結(jié)在芯片表面。凝結(jié)水不但會影響顯影特性，還會吸收到半導(dǎo)體內(nèi)，這將導(dǎo)致膨化及其它質(zhì)量缺陷，還必須增加一些不必要的工藝控制。  

        凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調(diào)節(jié)空氣，另一種是除濕劑。采用第一種方法時，將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點(diǎn)以下。除去析出的冷凝水，將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后，重新送回凈化間。標(biāo)準(zhǔn)冷凍機(jī)可保證露點(diǎn)達(dá)到+4℃；采用第二種方法時，氣流通過吸濕劑，吸濕劑直接吸收氣流中的水分，然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點(diǎn)低于-18℃。

      另外，半導(dǎo)體芯片需在化學(xué)氣相沉積外延反應(yīng)爐中加工，將一層穩(wěn)定的單晶硅膜沉積在芯片上。在加工過程中反應(yīng)爐中的水氣和氧氣會污染沉積膜而降低

產(chǎn)量。

         反應(yīng)爐工作氣壓范圍從高真空度到大氣壓，可在約344kPa壓力下預(yù)凈化處理。該工藝所需的氣體包括：胂化氫、磷化氫、氫、氮和氬等。膜沉積工藝質(zhì)量取決于對氣體混合及質(zhì)量流量的控制。產(chǎn)量取決于濕度的控制精度。也就是說，濕度及氧的測量，對設(shè)計嚴(yán)格的氣體混合規(guī)范十分重要，整個工藝過程離不開熱電制冷自動檢測露層的平衡式精密露點(diǎn)儀的監(jiān)測。